产品特性
中商情报网讯：涂胶显影设备是光刻工序中与光刻机配套运用的涂胶、烘烤及显影设备，包含涂胶机、喷胶机和显影机。依据运用方法不同可分为独自运用（Off Line）和联机作业（In Line）。
涂胶/显影机作为光刻机的输入（曝光前光刻胶涂覆）和输出（曝光后图形的显影）设备，首要经过机械手使晶圆在各体系之间传输和处理，然后完结晶圆的光刻胶涂覆、固化、显影、坚膜等工艺进程，是集成电路制作进程中不可或缺的要害处理设备。我国大区（含我国台湾地区）前道涂胶显影设备市场规模估计由 2016 年的 8.57 亿美元增加至2023 年的10.26 亿美元，年均复合增加率有望达 7.78%。
TEL 在我国大陆的市占率高达91%，其次为 Screen（迪恩士），占比挨近 5%，我国芯源微涂胶显影设备国产化率仅为4%。
更多材料请参考中商工业研究院发布的《我国半导体设备职业市场前景及出资时机研究报告》,同时中商工业研究院还供给工业大数据、工业情报、工业研究报告、工业规划、园区规划、十四五规划、工业招商引资等服务。
